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  • ZTM密閉制冷加熱循環(huán)裝置（-30~200℃）
    ZTM密閉制冷加熱循環(huán)裝置（-30~200℃）

    ZTM密閉制冷加熱循環(huán)裝置用途特點(diǎn)：向外部提供熱源或冷源，適用于制藥、化工、生物、新材料等行業(yè)，應用于反應釜的溫度控制、材料測試中的溫度控制、工藝過(guò)程中溫度變化模擬控制、半導體設備的溫度控制、新能源電池包熱測試平臺的溫度控制、真空室的溫度控制等

    更新時(shí)間：2024-03-19型號：
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