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用途特點(diǎn)：向外部提供冷源，滿(mǎn)足低溫反應條件，適用于制藥、化工、生物、新材料等行業(yè)以及各大學(xué)、科研院所實(shí)驗室，應用于反應釜的溫度控制、旋轉蒸發(fā)儀冷凝器的冷卻，材料測試中的溫度控制、工藝過(guò)程中溫度變化模擬控制、半導體設備的溫度控制等。